本文介绍了PMOS和NMOS的工作原理。 什么是PMOS与NMOS? 此处以增强型PMOS,NMOS为例,通常说的MOS管说的都是增强型MOS管。 上图为PMOS的示意图,衬底为N型半导体,源极 (Source) 和漏极 (Drain)掺杂了P型杂质 (如硼B),形成P+区。N型硅多电子。 上图为NMOS的示意图,衬底为P型硅,衬底源极 (Source) 和漏极 (Drain)掺杂了N型杂质 (如磷P),形成 N+区。P型硅多空穴。 NMOS的工作原理 如上图,当栅极没有施加电压时,源极和漏极之间没有电流通过,MOSFET处于关断状态。当栅极施加一个正电压时,该电场会将P型衬底中靠近栅氧的空穴排斥开,同时吸引电子到栅氧下方的区域,形成N型导电沟道。 在漏极 (Drain) 上施加正电压,在源极和漏极之间形成电压差。电子从源极经过沟道流向漏极,形成漏极电流,电路导通。通过调节栅电压,可以控制导电通道的宽度,从而调节源极和漏极之间的电流流动。 PMOS的工作原理 PMOS晶体管中,当栅极施加负电压时,N型衬底中的电子被排斥,空穴 (Holes)被吸引到栅极下方。形成一个P型导电沟道,连接源极和漏极,实现空穴流动。当在源极和漏极之间施加电压时,电流可以流动。 |