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基於TOSHIBA Power MOSFET的結構與特性介紹

2025-2-13 09:25| 发布者: 闪电| 查看: 1| 评论: 0

摘要: 本篇我們將介紹功率MOSFET的結構與特性。由於功率MOSFET主要作為多數載子元件運作,它們不受少數載子影響,這與依賴少數載子的元件(如雙極性晶體管)形成對比,後者在設計上可能會遇到更多問題。此外,功率MOSFET的 ...

本篇我們將介紹功率MOSFET的結構與特性。由於功率MOSFET主要作為多數載子元件運作,它們不受少數載子影響,這與依賴少數載子的元件(如雙極性晶體管)形成對比,後者在設計上可能會遇到更多問題。此外,功率MOSFET的輸入阻抗通常遠高於結型FET。雖然功率MOSFET在速度上表現優異,但在初期開發階段,人們認為要實現低導通電阻、高擊穿電壓和高功率是困難的。然而,近年來在這些方面取得了顯著進展。隨著平面閘極雙擴散結構的普及,以及溝槽閘極和超接面(SJ)結構的發展,新一代功率MOSFET在速度、導通電阻和擊穿電壓方面都有了顯著提升。如今,功率MOSFET已廣泛應用於商業、工業、汽車等領域作為開關元件。

       而功率MOSFET可以根據其閘極和漂移結構進行大致分類。圖1. 展示了當前使用的三種常見結構。圖1.(a)展示了雙擴散MOS(D-MOS)結構。在D-MOS元件的製造中,通道是通過雙擴散過程形成的,以提供高耐壓。D-MOS製程非常適合提高元件密度,從而實現具有低導通電阻和低功率損耗的高性能功率MOSFET。圖1.(b)展示了溝槽閘極結構。溝槽閘極製程通過形成U型溝槽的垂直閘極通道來增加裝置密度,進而降低導通電阻。這種結構被用於製造相對低電壓的功率MOSFET。圖1.(c)展示了超級結(SJ)結構。這種結構具有由交替的p型和n型半導體層組成的漂移區,克服了垂直矽製程的固有限制,與傳統功率MOSFET相比,具有極低的導通電阻。超級結製程在改善VDSS(最大漏電源電壓)和Ron∙A(每個特定區域的標準化導通電阻)之間的權衡方面提供了顯著優勢,因此有助於大幅減少導通損耗。

圖1: Power MOSFET Structures(註1:Power MOSFET Structure and Characteristics)

下表則為TOSHIBA Power MOSFET特性的比較,提供給客戶參考,如表1.所示。

表1. Comparison of TOSHIBA Power MOSFETs (註1:Power MOSFET Structure and Characteristics)

以下是功率MOSFET的一些通用特點:


(1) MOSFET基本上是多數載子設備,其工作原理與雙極型電晶體的少數載子設備不同。
(2) 雙極電晶體是電流控制設備,而MOSFET是電壓控制設備,由閘極-源極電壓控制。
(3) 由於MOSFET是多數載子設備,它們不受載子儲存效應的影響,這使得它們能夠進行高頻開關。
(4) 在雙極電晶體中,電流集中在高電壓區域,容易因次級擊穿而損壞。相較之下,功率MOSFET對次級擊穿的抵抗力更強,更穩固。但是,最新的MOSFET設備的電氣特性應仔細檢查,因為某些設備可能容易發生次級擊穿。
(5) 功率MOSFET具有正的導通電阻溫度係數,在進行熱設計時,應考慮高溫下的RDS(ON)值。

我們將雙極功率電晶體與功率MOSFET進行比較,比較表如表1. 所示提供給各位參考。

表1.Comparison of Bipolar Power Transistors and Power MOSFETs (註1:Power MOSFET Structure and Characteristics)

以上就是TOSHIBA Power MOSFET的結構與特性的介紹,下一篇我們將會再介紹TOSHIBA 第三代半導體Sic device的介紹。


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