反相器的制造过程

    ②整个晶片涂上光刻胶

    光刻胶是光敏感有机聚合物将整个晶片图上光刻胶，暴露在光线中的部分融化。

    ③光刻

    光刻：平版印刷，并在做N阱的位置用N阱掩模（mask）曝光光刻胶，然后去掉被曝光的光刻胶。

    ④刻蚀

    用氢氟酸蚀刻N阱位置的氧化物。