《超大规模集成电路设计方法学导论》

随着集成技术的发展和集成度的迅速提高，集成电路芯片的设计越来越复杂，原有的传统方法--手工画图、刻红膜的方法已无法适应，急需在设计方法与设计工具方面来一个大的变革。这就是经常谈论的“设计革命"。各种计算机辅助设计手段的涌现以及设计方

法学的诞生正是为了适应这种要求。设计一个芯片时有以下几方面的要求。第一是设计时间。设计时间不仅影响设计费用和产品成本，而且会由于设计时间过

长，而失去新产品投入市场的机会。在芯片设计中，版图设计尤其花费时间。按常规方法，一个版图给制人员每天约5~10个器件(包括检查和修改)。如果我们要设计一个有一万个OS品体管的芯片就需要40~80个人月，如设计一个有十万个器件的芯片则大约要花0个人年。而这又不可能单纯依靠增加版图设计人员来缩短设计周期。