《集成电路版图基础——实用指南(李伟华译,2006)》

作者序

集成电路(IC)版图设计是一个非常新的领域,虽然掩模设计已经有30多年的历史,但直到最近才成为一种职曼。人们希望从事这个职业,包括大学毕业生和一些希望转行的人们,他们需要了解一些非常复杂的原理。同样地,一些富有经验的版图工程师也发现当代IC工艺的复杂性要求他们进一步了解这些基础知识。

包含版图工程师需要了解的所有信息的资料现在找起来已经是十分困难,在关于其他方面工作的一些讨论中略微地介绍了一些关于版图工程师应该了解的基础知识,但涵盖了相关的方方面面的材料尚未发现。

在本书中探讨了相关的内容。我们希望为新的版图设计师们提供他们应了解的所有理论和设计基础知识，使他们成为设计能手，为他们的职业生涯提供参考。我们也希望给那些富有经验的版图设计从业者一个知识的扩展,增加对当今器件与技术的了解。

这本书从基本半导体理论开始介绍,进而阐述了在现代半导体技术中基本器件的发展。在较深的程度上为读者提供了有价值的设计方程以及设计IC版图的方法与技术，这些知识将使从事该职业的人们终生受益。

本书的内容以幽默,图示和循序渐进的方式表述,在书中关键之处插人了轶事和佐证加以调侃,但丝毫不会影响本书作为高技术资料的水平。

本书内容完整,可读性强,欢迎大家阅读此书:集成电路版图基础--实用指南》。

Christopher Saint

Judy Saint

译 者 序

集成电路版图是电路系统与集成电路工艺之间的中间环节,是一个必不可少的重要环节。通过集成电路版图设计,可以将立体的电路系统变为一个二维的平面图形,再经过工艺加工还原为基于硅材料的立体结构。因此,版图设计是一个上承电路系统,下接集成电路芯片制造的中间桥梁,其重要性可见一班。

随着微电子技术的突飞猛进,新技术、新工艺、新材料不断涌现，设计方法、设计手段、设计理念不断更新,版图设计已从单纯的图形设计发展为需要综合考虑各方面因素的、复杂的设计问题，一个优秀的版图设计工程师不仅需要了解版图设计的技术、技巧,还应该对相关的电路系统问题、工艺问题以及一些重要的物理效应有深刻的理解。但是,集成电路版图设计也确实是令设计者们感到困惑的一个环节,我们常常感到版图设计似乎没有什么"规矩”设计的经验性往往掩盖了设计的科学性。即使是有多年版图设计经验的人有时也"说不清”为什么要这样或那样设计。在多年的科研与教学实践中,我们感到版图设计方面的间题是最令学生感到无所适从的问题之一。长期以来,关于集成电路版图设计的知识大部分是作为集成电路原理或VLSI设计书籍中的一些章节,专门介绍版图设计知识的文献资料非常缺少，此次清华大学出版社引进并组织翻译有关版图设计的书籍,为集成电路版图设计者提供了非常好的学习与参考资料。虽然工作非常繁忙,我们仍接下了翻译任务,希望本书能够成为微电子行业的从业者学习与了解版图设计基础的实用资料。

本书从基本半导体理论的介绍开始,循序渐进地介绍了基本集成电路单元的版图设计。本书的一个突出特点是:在介绍版图设计的同时说明了为什么要这样设计,使读者知其然,并知其所以然。从本书的内容组织也可以看到,版图设计不是一个孤立的设计环节,它与一系列的技术相关联。本书内容的重点是版图设计的基础知识,对于新人行的从业者,这是一个良好的开端;对于有经验的设计者,本书期可作为对设计经验的回味和思考。

本书由东南大学李伟华和孙伟锋翻译。其中,孙伟锋负责第1、5、6、7章和第8章的翻译,李伟华负责第2、3、4章以及术语和其他内容的翻译,最后,由李伟华对全书的内容进行校对与整理。在本书的译过程中得到了东南大学MEMS教育部重点实验室和国家ASIC系统工程技术研究中心的老师和同事们的支持与帮助，在此一并表示感谢

由于水平有限,在对原著的理解方面可能存在不足,希望读者给予批评指正。

译者2006年1月于东南大学